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【訂正】2021年8月24日 新「ナノイー X」の効果/カビ菌の抑制時間:試験室の容積を訂正
(訂正前)試験室:23 m3
(訂正後)試験室:30 m3

2021年8月2日

製品・サービス / プレスリリース

「ナノイー」史上最高濃度のOHラジカルを生成する新「ナノイー X」デバイスを開発

OHラジカル生成量が「ナノイー」比100倍※1

記事の内容は発表時のものです。
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配信元:
パナソニック株式会社

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新「ナノイー X」デバイス
新「ナノイー X」デバイス放電

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